Pat
J-GLOBAL ID:200903067208094338
異物・欠陥検査装置及び検査方法
Inventor:
,
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,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
小川 勝男 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000309626
Publication number (International publication number):2002116155
Application date: Oct. 10, 2000
Publication date: Apr. 19, 2002
Summary:
【要約】【課題】半導体ウェハ等の被検査物の異物・欠陥検査の高感度化及び高速化による検査時間の短縮化。【解決手段】波長の異なるレーザビームを被検査物表面に異なる角度から照射し、散乱光のレベルから異物・欠陥の状態を分類して検出する。
Claim (excerpt):
レーザビームを被検査物に照射し散乱光により該被検査物の異物・欠陥を検査する異物・欠陥検査装置において、異なる波長の複数のレーザビームを被検査物の略同一位置に異なる角度で照射する照明光学系と、該被検査物の照射位置からの散乱光を上記波長毎に分けて検出する検出部と、該検出した波長毎の散乱光を電気信号に変換する変換部と、該波長毎の変換信号に基づき上記異物・欠陥の状態を判別する判別部とを備え、上記レーザビームの照射位置を上記被検査物の表面上で移動させ、該移動動作に伴い上記異物・欠陥の状態を分離して検出するようにしたことを特徴とする異物・欠陥検査装置。
IPC (4):
G01N 21/956
, G01B 11/30
, G01N 21/89
, H01L 21/66
FI (5):
G01N 21/956 A
, G01B 11/30 A
, G01B 11/30 Z
, G01N 21/89 S
, H01L 21/66 J
F-Term (69):
2F065AA49
, 2F065BB03
, 2F065CC19
, 2F065DD06
, 2F065FF42
, 2F065GG04
, 2F065GG23
, 2F065HH09
, 2F065HH12
, 2F065HH18
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ08
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL04
, 2F065LL09
, 2F065LL12
, 2F065LL15
, 2F065LL20
, 2F065LL21
, 2F065LL33
, 2F065LL37
, 2F065LL47
, 2F065LL57
, 2F065LL62
, 2F065MM03
, 2F065MM04
, 2F065MM26
, 2F065PP12
, 2F065PP13
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065RR09
, 2F065SS00
, 2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB01
, 2G051AB07
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BC07
, 2G051CA03
, 2G051CA04
, 2G051CB05
, 2G051DA08
, 2G051EA11
, 2G051EA14
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA41
, 4M106CA70
, 4M106DB03
, 4M106DB04
, 4M106DB05
, 4M106DB08
, 4M106DB12
, 4M106DB13
, 4M106DB14
, 4M106DB19
, 4M106DB21
, 4M106DJ02
, 4M106DJ06
, 4M106DJ14
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 4M106DJ23
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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表面検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-345736
Applicant:株式会社トプコン
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特開昭62-038348
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特開昭63-296348
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