Pat

J-GLOBAL ID：200903067229092122

水素分離膜及び水素分離膜の製造方法

Inventor： 大塚 健二 ,  箭原 繁雄
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001340200
Publication number (International publication number)：2003135943
Application date： Nov. 06, 2001
Publication date： May. 13, 2003
Summary：

【要約】【課題】 構成成分としてパラジウムの使用量が少なく、機械的強度が高く、水素透過性能が高く、水素透過選択性に優れた水素分離膜及び水素分離膜の製造方法を開発する。【解決手段】 金属多孔体に多孔質セラミックス層を積層し、その上にCVD法でパラジウム膜またはパラジウム合金膜を形成して水素分離膜とする。

Claim (excerpt)：

金属多孔体に多孔質セラミックス層が積層され、該多孔質セラミック層の表面にパラジウム膜またはパラジウム合金膜がCVD法により形成されていることを特徴とする水素分離膜。

IPC (5)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/12 ,  C01B 3/56 ,  C23C 16/18

FI (5)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/12 ,  C01B 3/56 Z ,  C23C 16/18

F-Term (33)：

4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA07 ,  4D006MA10 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB15 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03X ,  4D006NA31 ,  4D006NA39 ,  4D006NA45 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006NA62 ,  4D006PA04 ,  4D006PB66 ,  4G040FA06 ,  4G040FB09 ,  4G040FC01 ,  4G040FE01 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030BA01 ,  4K030BB12 ,  4K030CA02 ,  4K030CA11 ,  4K030DA01 ,  4K030DA09 ,  4K030FA10 ,  4K030HA01 ,  4K030LA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 水素分離膜およびその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-255004   Applicant：エヌオーケー株式会社, 諸岡成治
• 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-038223   Applicant：エヌオーケー株式会社