Pat

J-GLOBAL ID：200903067253961468

マスク

Inventor： 原田 勝征 ,  松尾 誠太郎
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993019191
Publication number (International publication number)：1995140639
Application date： Jan. 12, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 斜入射照明方式による投影露光に用いるマスクにおいて、周期パタンの終端部や非周期パタンエッジ部に原理的に生じるパタン歪や位置ずれを除去または減少させ、併せてコントラストを向上させることにより、微細で精度の高いパタンを得ることができるようにする。【構成】 目的とするパタン101の端部に、解像不能な補助パタン103からなる補助パタン群102を形成する。

Claim (excerpt)：

斜入射照明方式による投影露光に用いるマスクにおいて、目的とするパタンと、解像不能な補助パタンを備えたことを特徴とするマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 514 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 投影露光方法及び投影露光用光学マスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-028296   Applicant：富士通株式会社
• 特開平4-206813