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J-GLOBAL ID:200903067325802106

多層薄膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999094688
Publication number (International publication number):2000282241
Application date: Apr. 01, 1999
Publication date: Oct. 10, 2000
Summary:
【要約】【課題】 第1ガスによる成膜時に第2ガスを間欠的に混合する化学蒸着法において、第2ガスの流量を安定化させて容易に高品質化できる多層薄膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 化学蒸着法による多少薄膜の製造方法であって、第1ガスを第1バルブ6を通して一定の流量にて蒸着室1に導入しつつ、第2ガスを第2バルブ12を通して周期的もしくは間欠的に蒸着室1に導入し、第2バルブ12とこの第2バルブ12の前段で分岐して配置され排気系統を操作するパージ用バルブ14とを交互に開閉して、第2ガスが蒸着室1に導入される時と導入されない時とで第2ガスの流量がほぼ一定となる状態として成膜し、ガス変調のときでも第2バルブ12の前段で第2ガスが滞留しないようにし、化学蒸着法であっても生産性良く高品質の多層薄膜を得る。
Claim (excerpt):
化学蒸着法で薄膜の作製を行う原料ガスとして、主成分となる第1ガスと、少なくとも組成の変調やドーピングを行うための第2ガスとを用い、前記第1ガスと前記第2ガスとを混合して蒸着室内に導入して多層薄膜を製造する方法であって、前記第1ガスを第1バルブを通して一定の流量にて前記蒸着室に導入しつつ、前記第2ガスを第2バルブを通して周期的もしくは間欠的に前記蒸着室に導入し、前記第2バルブと当該第2バルブの前段で分岐して配置され排気系統を操作するパージ用バルブとを交互に開閉して、前記第2ガスが蒸着室に導入される時と導入されない時とで前記第2ガスの流量がほぼ一定となる状態として成膜を行うことを特徴とする多層薄膜の製造方法。
IPC (3):
C23C 16/44 ,  C23C 16/30 ,  H01L 21/205
FI (3):
C23C 16/44 D ,  C23C 16/30 ,  H01L 21/205
F-Term (32):
4K030AA06 ,  4K030AA07 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030AA20 ,  4K030BA02 ,  4K030BA08 ,  4K030BA26 ,  4K030BA29 ,  4K030BB12 ,  4K030EA01 ,  4K030EA03 ,  4K030EA11 ,  4K030JA05 ,  4K030JA11 ,  4K030KA45 ,  4K030LA12 ,  4K030LA15 ,  5F045AA08 ,  5F045AB03 ,  5F045AB04 ,  5F045AB07 ,  5F045AC01 ,  5F045AC11 ,  5F045BB08 ,  5F045DA52 ,  5F045EE15 ,  5F045EE19 ,  5F045EG02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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