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J-GLOBAL ID：200903067399924769

パターン描画装置

Inventor： 雨森 清忠 ,  生藤 邦夫
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (3)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006310203
Publication number (International publication number)：2008129051
Application date： Nov. 16, 2006
Publication date： Jun. 05, 2008
Summary：

【課題】装置の安定度を考慮した適正な時間間隔で照射位置の較正処理を行うことができ、装置の稼働率と描画品質とを両立させることができるパターン描画装置を提供する。【解決手段】本実施形態のパターン描画装置1は、各光学ヘッドによるパルス光の照射位置を計測し、その照射位置のずれ量Pおよびずれ量の差分ΔPに応じて較正処理の時間間隔Tsを変更する。このため、光学ヘッドの安定度を考慮した適正な時間間隔Tsで較正処理を行うことができ、装置の稼働率と描画品質とを両立させることができる。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

基板の表面に所定のパターンを描画するパターン描画装置において、 表面に感光材料の層が形成された基板を保持する保持手段と、 前記保持手段に保持された基板の表面に光を照射する光照射手段と、 前記保持手段と前記光照射手段とを相対的に移動させる移動手段と、 前記光照射手段による光の照射位置を計測する計測手段と、 前記計測手段により計測された照射位置と理想位置とのずれ量を算出する算出手段と、 前記ずれ量を減少させるように、前記照射位置を調整する調整手段と、 前記計測手段、前記算出手段、および前記調整手段による一連の較正処理を複数回行うときに、その時間間隔を前記ずれ量に応じて変更する間隔変更手段と、 を備えることを特徴とするパターン描画装置。

IPC (2)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 529

F-Term (17)：

2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097BB10 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  2H097KA29 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046DA01 ,  5F046DB01 ,  5F046DB04 ,  5F046DC12 ,  5F046FA09 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• パターン描画装置およびパターン描画方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-334479   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社