Pat

J-GLOBAL ID：200903067400701574

炭酸風呂装置

Inventor： 近藤 龍太 ,  大野 英樹 ,  近藤 正満
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (3)： 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004111795
Publication number (International publication number)：2005288052
Application date： Apr. 06, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：

【課題】炭酸ガスを浴槽湯に効率よく溶解させて、遊離炭酸濃度の大きい炭酸泉を簡単構成で低コストにつくることが可能な炭酸風呂装置を提供する。【解決手段】ポンプ15により浴槽12の湯が循環する浴槽湯循環装置10の循環回路14終端に、中空部29を有する器体30を設けて、中空部29内で浴槽湯と炭酸ガスを旋回させて浴槽12内へ微細気泡として噴出させる構成とすることで、炭酸ガスを浴槽湯に効率よく溶解させて、遊離炭酸濃度の大きい炭酸泉を簡単構成で低コストにつくることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

浴槽の湯が循環する浴槽湯循環装置と循環回路と、高濃度の二酸化炭素ガスを供給する炭酸富化装置と、前記炭酸富化装置と前記循環回路との間に設けた炭酸配管と、前記浴槽に湯を流出する前記循環回路の終端に設けた中空部を有する器体と、前記器体に開口された流入口と、前記循環回路から前記流入口に接続される加圧液導入管と、前記器体に開口した気液噴出孔とを備え、浴槽湯と前記炭酸富化装置から出る高濃度二酸化炭素ガスとを導入して前記器体内で旋回流とし前記気液噴出孔より噴出させることで、二酸化炭素を湯に溶解させるようにした炭酸風呂装置。

IPC (3)：

A61H33/02 ,  A47K3/00 ,  B01F1/00

FI (3)：

A61H33/02 A ,  A47K3/00 F ,  B01F1/00 B

F-Term (5)：

4C094AA01 ,  4C094DD06 ,  4C094GG13 ,  4G035AA06 ,  4G035AB05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 炭酸風呂給湯装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-334110   Applicant：大阪瓦斯株式会社
• 炭酸泉の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-115559   Applicant：三菱レイヨン株式会社