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J-GLOBAL ID：200903067439392811

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 佐藤 和史 ,  前盛 諭 ,  中緒 卓 ,  新田 和行
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999074097
Publication number (International publication number)：2000267283
Application date： Mar. 18, 1999
Publication date： Sep. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】 製造ロットに起因する品質のバラツキを容易に調整することができ、かつユーザーのニーズに広く対応可能な物性をもつ化学増幅型ポジ型レジストを提供する。【解決手段】 (A)酸解離性基で保護された水酸基をもつヒドロキシスチレン単位を含む重合体、及び(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する化学増幅型レジスト組成物において、(A)成分として酸解離性基は同一であるが、その保護率が異なる2種以上の重合体からなり、それらの重合体中の最大重量平均分子量(Mwmax)と最小重量平均分子量(Mwmin)との比(Mwmax/Mwmin)が1.5未満である混合物を用いたポジ型レジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)酸解離性基で保護された水酸基をもつヒドロキシスチレン単位を含む重合体、及び(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する化学増幅型レジスト組成物において、(A)成分として酸解離性基は同一であるが、その保護率が異なる2種以上の重合体からなり、それらの重合体中の最大重量平均分子量(Mwmax)と最小重量平均分子量(Mwmin)との比(Mwmax/Mwmin)が1.5未満である混合物を用いたことを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB51 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-060955   Applicant：日本電信電話株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-175638   Applicant：東京応化工業株式会社