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J-GLOBAL ID:200903067439983046
溶存物質の濃度分布計測方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤本 英夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996093063
Publication number (International publication number):1996320305
Application date: Mar. 22, 1996
Publication date: Dec. 03, 1996
Summary:
【要約】【目的】 液体中または物質中にしみこんだ液体中の溶存物質の濃度分布の画像を簡単に得ることができる溶存物質の濃度分布計測方法を提供すること。【構成】 センシングプレートSPを用いて、液体中あるいは物質中にしみこんだ液体中の溶存物質の水平方向あるいは垂直方向の二次元または三次元における濃度分布の変化を計測し、これを画像処理してディスプレイ26に濃度分布画像として表示する。
Claim (excerpt):
半導体基板の一方の面にセンシング部を形成するとともに、半導体基板に対してプローブ用の光を照射するように構成したセンシングプレートを用いて、液体中あるいは物質中にしみこんだ液体中の溶存物質の水平方向あるいは垂直方向の二次元または三次元における濃度分布やその変化を計測し、これを画像処理してディスプレイに濃度分布画像として表示することを特徴とする溶存物質の濃度分布計測方法。
IPC (5):
G01N 27/416
, G01D 7/00 301
, G01N 15/06
, G06T 1/00
, G06T 7/00
FI (5):
G01N 27/46 U
, G01D 7/00 301 M
, G01N 15/06 E
, G06F 15/62 380
, G06F 15/70 320
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (20)
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プラント温度監視装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-288843
Applicant:日本電気三栄株式会社
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特開平3-081648
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特開平2-028542
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特開平3-081648
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計測システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-282469
Applicant:株式会社堀場製作所
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特開平2-028542
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特開平2-200093
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特開平2-200093
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特開平3-057398
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特開平3-057398
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特開平1-097853
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特開平3-081648
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特開平2-028542
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特開平2-200093
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特開平3-057398
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特開平1-097853
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特開平3-081648
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特開平2-028542
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特開平2-200093
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特開平3-057398
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