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J-GLOBAL ID：200903067456363230

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： 畠山 潤 ,  渡辺 淳 ,  原田 裕次
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001124021
Publication number (International publication number)：2002012623
Application date： Apr. 23, 2001
Publication date： Jan. 15, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】 式(1)の繰り返し単位を含む高分子化合物。(Aは炭素数2〜20の脂肪族又は脂環式の2価の炭化水素基、R1はフッ素原子を含むアルキル基であり、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を含んでエーテル、エステル、カーボネート、アルコール、アセトキシ又はチオエステルを形成していてもよく、aは1〜3の正数。Rは単結合、メチレン基、酸素原子、NH基又は硫黄原子、R2、R3は単結合又はメチレン基。)【効果】 高エネルギー線に感応し、200nm以下、特には170nm以下の波長における感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れている。従って、特にF2エキシマレーザーの露光波長での吸収が小さいレジスト材料となり得るもので、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成でき、超LSI製造用の微細パターン形成材料として好適である。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示される繰り返し単位を含むことを特徴とする高分子化合物。【化1】(式中、Aは炭素数2〜20の脂肪族又は脂環式の2価の炭化水素基、R1はフッ素原子を少なくとも1つ以上含むアルキル基であり、該アルキル基は、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を含んでエーテル、エステル、カーボネート、アルコール、アセトキシ又はチオエステルを形成していてもよく、aは1〜3の正数である。Rは単結合、メチレン基、酸素原子、NH基又は硫黄原子、R2、R3は単結合又はメチレン基である。)

IPC (7)：

C08F 32/00 ,  C08G 61/00 ,  C08L 45/00 ,  C08L 65/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (7)：

C08F 32/00 ,  C08G 61/00 ,  C08L 45/00 ,  C08L 65/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (118)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BK001 ,  4J002CE001 ,  4J002DF007 ,  4J002EB116 ,  4J002ED058 ,  4J002EH118 ,  4J002EH148 ,  4J002EJ018 ,  4J002EJ038 ,  4J002EJ048 ,  4J002EJ058 ,  4J002EJ068 ,  4J002EL068 ,  4J002EN027 ,  4J002EN037 ,  4J002EN047 ,  4J002EN067 ,  4J002EN077 ,  4J002EN117 ,  4J002EN127 ,  4J002ES007 ,  4J002EU027 ,  4J002EU037 ,  4J002EU047 ,  4J002EU057 ,  4J002EU077 ,  4J002EU107 ,  4J002EU117 ,  4J002EU127 ,  4J002EU137 ,  4J002EU147 ,  4J002EU217 ,  4J002EU227 ,  4J002EU237 ,  4J002EV216 ,  4J002EV236 ,  4J002EV237 ,  4J002EV246 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002EV327 ,  4J002FD206 ,  4J002FD310 ,  4J002GH00 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J032BA02 ,  4J032BA07 ,  4J032BA08 ,  4J032BA12 ,  4J032BB01 ,  4J032BB06 ,  4J032BB09 ,  4J032BC03 ,  4J032CA43 ,  4J032CA68 ,  4J032CB01 ,  4J032CB03 ,  4J032CB12 ,  4J032CC03 ,  4J032CD01 ,  4J032CG06 ,  4J100AB07Q ,  4J100AE09Q ,  4J100AE26Q ,  4J100AE38Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL16Q ,  4J100AL26Q ,  4J100AL39Q ,  4J100AL46Q ,  4J100AL51Q ,  4J100AM47Q ,  4J100AR03P ,  4J100AR04P ,  4J100AR09P ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA28Q ,  4J100BA29Q ,  4J100BA30Q ,  4J100BA31Q ,  4J100BA51Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC23Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-018290   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-352621   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 特開昭63-210114
  
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-117209   Applicant：旭硝子株式会社