感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996352621
Publication number (International publication number)：1998111569
Application date： Dec. 16, 1996
Publication date： Apr. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】化学増幅型レジストとして、特に放射線に対する透明性およびドライエッチング耐性が優れ、しかも基板接着性、感度、解像度、現像性等にも優れたレジストパターンを与える感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)主鎖に脂環式骨格を有する樹脂と、(B)感放射線性酸発生剤とを含有する。

Claim (excerpt)：

(A)主鎖に脂環式骨格を有する樹脂と、(B)放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤とを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

α,β-不飽和ニトリルを有する脂環式多環族とメタクリレート誘導体との共重合体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-173129 Applicant：富士通株式会社
ポジ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-098671 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-099967 Applicant：富士通株式会社

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Cited by examiner (9)

α,β-不飽和ニトリルを有する脂環式多環族とメタクリレート誘導体との共重合体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-173129 Applicant：富士通株式会社
ポジ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-098671 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-099967 Applicant：富士通株式会社

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