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J-GLOBAL ID:200903072087121050
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996352621
Publication number (International publication number):1998111569
Application date: Dec. 16, 1996
Publication date: Apr. 28, 1998
Summary:
【要約】【課題】 化学増幅型レジストとして、特に放射線に対する透明性およびドライエッチング耐性が優れ、しかも基板接着性、感度、解像度、現像性等にも優れたレジストパターンを与える感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)主鎖に脂環式骨格を有する樹脂と、(B)感放射線性酸発生剤とを含有する。
Claim (excerpt):
(A)主鎖に脂環式骨格を有する樹脂と、(B)放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤とを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (3):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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α,β-不飽和ニトリルを有する脂環式多環族とメタクリレート誘導体との共重合体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-173129
Applicant:富士通株式会社
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ポジ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-098671
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-099967
Applicant:富士通株式会社
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-125006
Applicant:株式会社東芝
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デバイス製造のためのパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-049956
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
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レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-049874
Applicant:富士通株式会社
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アルカリ現像用レジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-213571
Applicant:株式会社東芝
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-221230
Applicant:株式会社東芝
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酸不安定ペンダント基を持つ多環式ポリマーからなるフォトレジスト組成物
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-532033
Applicant:ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー
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