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J-GLOBAL ID:200903067471897135
排水の高度処理方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
高田 守 (外4名)
, 高田 守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995075894
Publication number (International publication number):1996267077
Application date: Mar. 31, 1995
Publication date: Oct. 15, 1996
Summary:
【要約】【目的】 過酸化水素併用オゾン処理法による排水の高度処理において、汚濁有機物の分解除去効率が良好で、経済的で実用的な処理方法を提供する。【構成】 (1)予め定められたオゾン注入率に対して、5〜300g/Nm3の範囲で発生オゾン濃度を調節しながら、同時に発生オゾンガス流量も調節して、オゾン反応器へのオゾン供給速度を予め定めた値に保つことにより、あるいは、(2)オゾン接触段を複数として反応槽前半のオゾン接触段への過酸化水素添加量を多くすることにより、あるいは、(3)被処理水の除去される有機物濃度のTOC濃度換算値1mg/lに対し、過酸化水素添加濃度が5〜20mg/l、オゾン吸収消費量10〜50mg/lとすることにより、汚濁有機物の分解除去効率が良好で、経済的で実用的な過酸化水素併用オゾン処理法による水の高度処理を行う。
Claim (excerpt):
被処理水に過酸化水素とオゾンとを供給し、上記被処理水中の有機物を分解除去する方法において、予め定められたオゾン注入率に対して、発生オゾン濃度と発生オゾンガス流量を調節して、上記被処理水に供給するオゾンの供給速度を予め定めた値に保つことを特徴とする排水の高度処理方法。
IPC (4):
C02F 1/78 ZAB
, C02F 1/28
, C02F 1/52
, C02F 1/72
FI (4):
C02F 1/78 ZAB
, C02F 1/28 D
, C02F 1/52 Z
, C02F 1/72 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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