光学系

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：韮澤弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998005681
Publication number (International publication number)：1999202111
Application date： Jan. 14, 1998
Publication date： Jul. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】回折面上に保護層を設けても像の質が低下するのを防ぎ、さらに、不要次数光の影響を抑えて、高い像の質を得ることができる光学系。【解決手段】帯域光が入射する光学系であり、レリーフ型回折光学素子2と、このレリーフ型回折光学素子2に入射するかレリーフ型回折光学素子2を経た光の波長帯域を制限する手段3とを有し、レリーフ型回折光学素子2は、表面にレリーフ形状を有する光学部材4と、その光学部材4とは異なる材料からなり、光学部材4の表面上に形成された保護層5とを有する。

Claim (excerpt)：

帯域光が入射する光学系において、前記光学系は、レリーフ型回折光学素子と、このレリーフ型回折光学素子に入射する、あるいは、レリーフ型回折光学素子を経た光の波長帯域を制限する手段とを有し、該レリーフ型回折光学素子は、表面にレリーフ形状を有する光学部材と、該光学部材とは異なる材料からなり、前記光学部材の表面上に形成された保護層とを有することを特徴とする光学系。

IPC (2)：

G02B 5/18 , G02B 3/08

FI (2)：

G02B 5/18 , G02B 3/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

回折光学素子を含む光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-230105 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
回折光学素子を含む光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-110608 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
特開平1-245124

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