過酸化水素蒸気等の濃度測定装置および測定方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田澤博昭 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998338421
Publication number (International publication number)：1999230899
Application date： Nov. 13, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】滅菌処理室内の過酸化水素蒸気またはガスの濃度を測定するための改善された装置および方法を提供する。【解決手段】過酸化水素を分光光度測定法により200nmおよび400nmの間の紫外領域において計測する。水蒸気は当該紫外領域における光を吸収しないので、過酸化水素蒸気濃度の決定に影響を及ぼさない。有機化合物は当該紫外領域の光を吸収するが、これらの有機化合物は過酸化水素の濃度決定に先だって滅菌処理室を排気することにより一定の低いレベルになるまで除去する。紫外光供給源は254nmにおいて発光する低圧水銀蒸気ランプか、206nmの光に選択的な光学フィルターを伴う重水素ランプのいずれかを使用する。滅菌処理室の種々の領域における過酸化水素濃度を測定するために、可動ガスセルが使用できる。さらに、滅菌処理室内の過酸化水素蒸気濃度を制御するために、当該測定システムをフィードバックループ制御装置と組み合わせることも可能である。

Claim (excerpt)：

一定の収容領域内における過酸化水素蒸気またはガスの濃度決定法において、(a)前記収容領域を減圧排気する工程と、(b)過酸化水素を前記収容領域内に導入して試料を形成する工程とから成り、前記工程(a)および工程(b)が順不同に行なうことができ、さらに、(c)前記試料の吸光度を200ナノメートルから400ナノメートルの間の波長において測定する工程と、(d)前記吸光度によって前記試料における過酸化水素蒸気またはガスの濃度を決定する工程とから成ることを特徴とする方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

近赤外線分光分析による殺菌用過酸化水素蒸気濃度の測定及び殺菌方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-129878 Applicant：ユーオーピー
特公昭63-016901
特公平4-014743

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