Pat
J-GLOBAL ID:200903067622434485
パルスレーザ光発生装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
重信 和男
, 加古 進
, 清水 英雄
, 高木 祐一
, 中野 佳直
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004199277
Publication number (International publication number):2007147663
Application date: Jul. 06, 2004
Publication date: Jun. 14, 2007
Summary:
【課題】 チタン・サファイア・レーザなどの大型で高平均パワーの固体レーザからの光パルスを用いずに、半導体レーザからの光パルスを利用して、高いピークパワーの光により、狙いとする非線形光学効果を引き起こすことである。【解決手段】 半導体レーザ(レーザ・ダイオード:LD)15からの波長1550nmの半導体レーザ・パルス光(例えば、1MHzの繰り返し率)を、前段と主の2段階のEDFA20,40により効率的に増幅する。光学フィルタ30は、ノイズである自然放出光成分を除去する。そして、増幅されたパルス光から光デバイス(周期分極反転Mg添加LiNbO3:PPMgLN)50の非線形性により発生する第2高調波光パルスを光学フィルタ60で取り出して、フォトニック結晶ファイバ(PCF)70から800nm波長領域でのスーパーコンチニュウム光を発生する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
高い繰り返し率の光パルスを発生する半導体レーザと、
該半導体レーザからの光パルスを増幅する光ファイバによる前置光増幅器と、
該前置光増幅器からの増幅された光パルスの光スペクトルからもっと狭い帯域で抽出するフィルタと、
自己位相変調による光スペクトルの歪が少ない低非線形効果の光ファイバによる主光増幅器と
を備えることを特徴とするパルスレーザ光発生装置。
IPC (5):
G02F 1/365
, G02F 1/377
, H01S 3/10
, H01S 3/109
, H01S 3/23
FI (5):
G02F1/365
, G02F1/377
, H01S3/10 Z
, H01S3/109
, H01S3/23
F-Term (25):
2K002AA02
, 2K002AA04
, 2K002AA07
, 2K002AB12
, 2K002BA02
, 2K002CA03
, 2K002CA15
, 2K002DA03
, 2K002DA10
, 2K002EA07
, 2K002EA30
, 2K002GA10
, 2K002HA20
, 2K002HA22
, 5F172AF03
, 5F172AM08
, 5F172BB02
, 5F172DD03
, 5F172EE13
, 5F172NN08
, 5F172NN24
, 5F172NR22
, 5F172ZA01
, 5F172ZZ04
, 5F172ZZ11
Patent cited by the Patent: