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J-GLOBAL ID：200903067673702670
磁気ディスク媒体保護膜の成膜方法および装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000017186
Publication number (International publication number)：2001209929
Application date： Jan. 26, 2000
Publication date： Aug. 03, 2001
Summary：
【要約】【課題】 磁気ディスク媒体の保護膜として、高硬度で、従って薄膜化が十分可能な硬質炭素膜を高い生産性をもって安価に成膜することのできる方法および装置を提供する。【解決手段】 磁気ディスク媒体保護膜としての硬質炭素膜を成膜するための方法および装置であって、炭素含有物質のガスおよび酸素含有物質のガスをまたは炭素と酸素とを含有する物質のガスをプラズマ化してイオン化し、生成したイオンをマスフィルタに導き、フィルタリングして炭素イオンを選択し、この炭素イオンを磁気ディスク媒体に照射する工程もしくはそのための手段を含む。
Claim (excerpt)：
磁気ディスク媒体保護膜としての硬質炭素膜を成膜するための方法であって、炭素含有物質のガスおよび酸素含有物質のガスをまたは炭素と酸素とを含有する物質のガスをプラズマ化してイオン化し、生成したイオンをマスフィルタに導き、フィルタリングして炭素イオンを選択し、この炭素イオンを磁気ディスク媒体に照射することを含む方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (12)：
4K030AA09
, 4K030AA14
, 4K030BA28
, 4K030FA01
, 4K030FA07
, 4K030LA01
, 4K030LA20
, 5D112AA07
, 5D112BC05
, 5D112FA01
, 5D112FB08
, 5D112FB21
Cited by examiner (7)
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