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J-GLOBAL ID：200903067725315174

第2級ブタノール製造用反応器

Inventor：
内山 正一

About 内山 正一


Applicant, Patent owner：
出光興産株式会社

About 出光興産株式会社


Agent (1)： 渡辺 喜平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006055962
Publication number (International publication number)：2007230937
Application date： Mar. 02, 2006
Publication date： Sep. 13, 2007
Summary：
【課題】第2級ブタノールをより効率的に製造するための反応器及び製造方法を提供する。【解決手段】ヘテロポリ酸水溶液を触媒として用い、n-ブテンを直接水和する第2級ブタノールの製造用反応器であって、反応器内部にヘテロポリ酸水溶液を循環させる循環機構を有することを特徴とする第2級ブタノールの製造用反応器。循環機構としてはインナー配管が好ましい。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ヘテロポリ酸水溶液を触媒として用い、n-ブテンを直接水和する第2級ブタノールの製造用反応器であって、 反応器内部にヘテロポリ酸水溶液を循環させる循環機構を有することを特徴とする第2級ブタノールの製造用反応器。
IPC (3)：
C07C 29/04 ,  C07C 31/12 ,  B01J 3/00
FI (3)：
C07C29/04 ,  C07C31/12 ,  B01J3/00 B
F-Term (13)：
4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC41 ,  4H006BA14 ,  4H006BA33 ,  4H006BA75 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD81 ,  4H006BD84 ,  4H006FE11 ,  4H039CA60 ,  4H039CF10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特開昭60-149536号公報
Cited by examiner (3)

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