ケイ素系高分子化合物の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998021449
Publication number (International publication number)：1999209474
Application date： Jan. 19, 1998
Publication date： Aug. 03, 1999
Summary：

【要約】【解決手段】下記式(1) (XnR13-nSi)m-R2-SiR33-pXp (1)(式中、R1及びR3は水素原子、置換もしくは非置換の一価炭化水素基又はアルコキシ基、R2は(m+1)価の置換もしくは非置換の炭化水素基、Xはハロゲン原子を示し、mは0,1又は2、nは0,1,2又は3、pは1,2又は3である。)で示されるハロゲノシランの1種又は2種以上のハロゲノシラン混合物を金属ナトリウムの存在下に重合反応させて、ケイ素系高分子化合物を製造する方法において、X/Naのモル比が1.0より大きい最終の仕込み比率条件で上記式(1)のハロゲノシランの重合反応を行うことを特徴とするケイ素系高分子化合物の製造方法。【効果】本発明によれば、反応生成物中に残存ナトリウムがないためにアルコールを用いたクエンチを行わなくても安全に後処理をすることが可能である。

Claim (excerpt)：

下記式(1) (XnR13-nSi)m-R2-SiR33-pXp (1)(式中、R1及びR3は水素原子、置換もしくは非置換の一価炭化水素基又はアルコキシ基、R2は(m+1)価の置換もしくは非置換の炭化水素基、Xはハロゲン原子を示し、mは0,1又は2、nは0,1,2又は3、pは1,2又は3である。)で示されるハロゲノシランの1種又は2種以上のハロゲノシラン混合物を金属ナトリウムの存在下に重合反応させて、ケイ素系高分子化合物を製造する方法において、X/Naのモル比が1.0より大きい最終の仕込み比率条件で上記式(1)のハロゲノシランの重合反応を行うことを特徴とするケイ素系高分子化合物の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-258834
フツ化有機ケイ素高分子化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-198303 Applicant：日本電信電話株式会社
導電性重合体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-044923 Applicant：信越化学工業株式会社

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