Pat
J-GLOBAL ID：200903067820710226
レジスト用剥離液
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
南 孝夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993220410
Publication number (International publication number)：1995028254
Application date： Jul. 08, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：
【要約】【構成】 レジストの側壁保護堆積膜の除去用液であって、(a)糖アルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルスルホキシドおよび1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンよりなる群から選ばれる物質少くとも1種と(b)アルコールアミンと(c)水と必要に応じさらに、(d)第4級アンモニウム水酸化物とからなるレジスト用剥離液。【効果】 このレジスト用剥離液は、ドライエッチングの際に形成させたレジストの側壁保護堆積膜に対する剥離性と配線材料に対する非腐食性と作業の簡便性の両方を兼ね備えている。
Claim (excerpt)：
レジストの側壁保護堆積膜の除去用液であって、(a)糖アルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルスルホキシドおよび1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンよりなる群から選ばれる物質少くとも1種と(b)アルコールアミンと(c)水と必要に応じさらに、(d)第4級アンモニウム水酸化物とからなるレジスト用剥離液。
IPC (4)：
G03F 7/42
, C09D 9/00 PSS
, C23F 1/00 104
, H01L 21/027
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