ガス処理システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：藤沢則昭 , 藤沢正則 , 藤沢昭太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005199108
Publication number (International publication number)：2007014885
Application date： Jul. 07, 2005
Publication date： Jan. 25, 2007
Summary：

【課題】吸着された被処理ガスの除去成分を脱着して生成する濃縮ガスの濃度および温度を、触媒に対応した最適な一定値に維持して、効率よく吸着剤から除去成分を脱着し脱着した除去成分を処理するガス処理システムを提供する。【解決手段】被処理ガスの除去成分を吸着部2の吸着剤に吸着させた後の脱ガス空気を排気し、吸着剤に加熱空気を供給することにより吸着剤から除去成分を脱着して濃縮ガスを生成し、濃縮ガスを触媒燃焼させて除去成分を処理し、処理後の脱ガス空気と濃縮ガスとを熱交換するガス処理システム1において、吸着剤の脱着時に吸着部2に加熱ガスを循環させる濃縮装置5と、脱着時の濃縮ガスの濃度を検知する濃度検知装置6とを設け、濃度検知装置6により濃縮装置5を制御する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被処理ガスの除去成分を吸着部の吸着剤に吸着させた後の脱ガス空気を排気し、前記吸着剤に加熱空気を供給することにより前記吸着剤から除去成分を脱着して濃縮ガスを生成し、該濃縮ガスを触媒燃焼させて除去成分を処理し、処理後の脱ガス空気と前記濃縮ガスとを熱交換するガス処理システムにおいて、前記吸着剤の脱着時に前記吸着部に加熱ガスを循環させる濃縮装置と、脱着時の濃縮ガスの濃度を検知する濃度検知装置とを設け、前記濃度検知装置により前記濃縮装置を制御することを特徴とするガス処理システム。

IPC (6)：

B01D 53/44 , B01D 53/74 , B01D 53/86 , G01N 1/36 , G01N 1/22 , G01N 25/22

FI (5)：

B01D53/34 117G , B01D53/36 G , G01N1/28 Z , G01N1/22 L , G01N25/22

F-Term (36)：

2G040AB15 , 2G040BA23 , 2G040BB10 , 2G040CA01 , 2G040DA01 , 2G040ZA08 , 2G052AA00 , 2G052AD02 , 2G052AD22 , 2G052AD42 , 2G052BA22 , 2G052ED03 , 2G052ED10 , 2G052GA20 , 4D002AA33 , 4D002AA40 , 4D002AB02 , 4D002AB03 , 4D002BA04 , 4D002BA05 , 4D002CA07 , 4D002CA13 , 4D002DA41 , 4D002DA45 , 4D002DA70 , 4D002EA02 , 4D002EA08 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB02 , 4D002HA08 , 4D048AA23 , 4D048AB01 , 4D048CC54 , 4D048CD01 , 4D048CD08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

臭気性ガスの脱臭方法および脱臭装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-095436 Applicant：三浦工業株式会社, 株式会社三浦研究所
低濃度有機溶剤ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-290215 Applicant：東洋紡績株式会社
特開昭52-002867

Show all

Cited by examiner (9)

低濃度有機溶剤ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-290215 Applicant：東洋紡績株式会社
特開昭52-002867
特開昭52-002867

Show all

Return to Previous Page