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J-GLOBAL ID：200903067897034576

感放射線性樹脂組成物

Inventor： 西村 功 ,  遠藤 昌之
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997131948
Publication number (International publication number)：1998319593
Application date： May. 22, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】 アルカリ性水溶液で現像でき、高解像度、高感度であり、しかも、耐熱性、耐溶剤性、透明性等の諸特性とともに、従来これらの特性と同時に実現することが困難であった低誘電特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)、(a-1)ヘキサフルオロプロピレン、(a-2)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物および(a-3)上記(a-1)成分および(a-2)成分と共重合可能な不飽和化合物との含フッ素共重合、(B)、放射線の照射を受けて酸を発生する酸発生化合物、(C)、架橋性化合物並びに(D)、前記(A)成分、(B)成分および(C)成分を溶解している有機溶媒からなることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

(A)、(a-1)ヘキサフルオロプロピレン、(a-2)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物および(a-3)上記(a-1)成分および(a-2)成分と共重合可能な不飽和化合物との含フッ素共重合体、(B)、放射線の照射を受けて酸を発生する酸発生化合物、(C)、架橋性化合物並びに(D)、前記(A)成分、(B)成分および(C)成分を溶解している有機溶媒からなることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (2)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-210641   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
• 特開平4-345609
  
• 特開平4-279612
  
• 特開平3-103410