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J-GLOBAL ID:200903068084155119

断層像再構成装置及び断層像再構成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994176752
Publication number (International publication number):1996044850
Application date: Jul. 28, 1994
Publication date: Feb. 16, 1996
Summary:
【要約】【目的】均一な断層像を再構成して実用上有効な断層像再構成装置及び断層像再構成方法を提供する。【構成】多方向から入力された複数の投影像から対象物の断層像を再構成する断層像再構成装置であって、対象物の投影像を入力するX線回転投影装置100と、入力された複数の投影像における同一の動径座標での画素濃度値に対して回転方向の補間を行なう際に、動径座標の値に対応した補間係数を発生するアドレス発生器215、ROM203と、入力された複数の投影像における同一の動径座標での画素濃度値と、発生された補間係数とを用いて累積加算演算を行なって補間投影像としての前記動径座標における新たな画素濃度値を生成する乗算器204、加算器205、バッファメモリ206とを具備する。
Claim (excerpt):
多方向から入力された複数の投影像から対象物の断層像を再構成する断層像再構成装置であって、対象物の投影像を入力する投影像入力手段と、入力された複数の投影像における同一の動径座標での画素濃度値に対して回転方向の補間を行なう際に、動径座標の値に対応した補間係数を発生する補間係数発生手段と、入力された複数の投影像における同一の動径座標での画素濃度値と、補間係数発生手段により発生された補間係数とを用いて所定の演算を行なって補間投影像としての前記動径座標における新たな画素濃度値を生成する補間演算手段と、を具備したことを特徴とする断層像再構成装置。
IPC (2):
G06T 1/00 ,  A61B 6/03 350
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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