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J-GLOBAL ID:200903068186891960

導波路型光学素子の作製法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996242773
Publication number (International publication number):1998090544
Application date: Sep. 13, 1996
Publication date: Apr. 10, 1998
Summary:
【要約】【課題】 高性能な導波路型光学素子を安価で簡便に作製でき、しかも、他の光部品と光結合する際、繁雑な位置合わせ等の作業が不要となるV溝等を導波路と一体化して作製することができる導波路型光学素子の作製法を提供する。【解決手段】 安価な材料である高分子材料から、大量生産に適した加工法である金型のパターンを転写する成形加工により、導波路を作製することを基本とし、クラッド材料を用いてコア用の溝が付与されたものを成形加工により作製し、その溝にコア材料を充填する際、溝を埋めた後の余剰のコア材料の処理プロセスを、溶媒により除去することが可能なプロセスを取れるように、用いる金型に工夫を施し、成形加工材料として光硬化するタイプの材料の構造も、エポキシ環、不飽和基、シリコーン等を有し硬化収縮が少ない構造として成形加工時の加工誤差を少なくする。
Claim (excerpt):
基板上に高分子材料を塗布し、導波路の下部クラッド材料とし、このクラッド材料の上に、硬化した際に下部クラッド材料の屈折率より高い樹脂を形成する液状の光硬化する材料を塗布し、所望の凹形状部を有する金型を圧力をかけてのせた後、金型越しに光を照射し、金型の凹形状部に封入されている液状の光硬化する材料のみを硬化させ、金型の凹形状部以外に存在した液状の光硬化する材料を溶媒で洗い流し、これににより光導波路のコアリッジを形成することを特徴とする導波路型光学素子の作製法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開平2-131202
  • 特開平2-070412
  • 特開平1-271710
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