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J-GLOBAL ID:200903068233683190

高密度光記録方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三好 秀和 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995221441
Publication number (International publication number):1996180453
Application date: Aug. 30, 1995
Publication date: Jul. 12, 1996
Summary:
【要約】【課題】 高密度光記録のために回折限界で集束される光をフレネル回折現象でさらに集束して大きさがはるかに縮められた光スポットを形成することにある。【解決手段】 対物レンズ3により集束される光を回折光学素子6でその焦点深度付近での光の位相や光量を空間的に制御して光ディスク4上における光スポットを再結像する。再結像する光スポットの直径はその回折光学素子6が光の位相や光量を制御する部分の幅に応じて縮められ、その際の光強度の分布は回折光学素子6と光ディスク4間の間隔に従って変わる。理論的には無限に小さい光スポットを形成することができるが、実用的に相当な記録容量の増大を図ることができる。回折光学素子4はスイングア-ムを有する光ピックアップ装置で浮動型スライダとして応用可能である。
Claim (excerpt):
光源から発生される光を対物レンズで集束して光記録媒体に光スポットを形成して行う光記録方法において、前記対物レンズにより集束される光の位相や光量を空間的に制御する回折光学素子を使用してその集束される光を回折させることを特徴とする高密度光記録方法。
IPC (2):
G11B 7/135 ,  G11B 7/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
  • 光ヘッド装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-104830   Applicant:日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
  • 一体型光素子および基板型光素子
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-231976   Applicant:シヤープ株式会社
  • 特開平2-306440
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