Pat
J-GLOBAL ID:200903068305127832

t-ブチルアクリレートおよび/またはt-ブチルメタクリレートをベースにしたアクリレートポリマー

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 平木 祐輔 ,  藤田 節 ,  新井 栄一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002541969
Publication number (International publication number):2004514000
Application date: Nov. 09, 2001
Publication date: May. 13, 2004
Summary:
本発明は、30〜99重量パーセントのt-ブチルアクリレートおよび/またはt-ブチルメタクリレートをモノマーAとし、1〜28重量パーセントのアクリル酸および/またはメタクリル酸をモノマーBとし、さらに0〜60重量パーセントのラジカル共重合性モノマーまたはラジカル共重合性モノマー混合物をモノマーCとして、ラジカル重合することによって得ることができ、K値が10〜60であるアクリレートポリマーに関するものであり、ここでモノマーCのうちの少なくとも一つはガラス転移点が30°C未満であるホモポリマーを形成し、前記重量パーセントは合計すると100となるものである。このラジカル重合は、C14〜C22である炭素鎖長を持つアルカンチオールの存在下で行われる。本発明はまた、30〜99重量パーセントのt-ブチルアクリレートおよび/またはt-ブチルメタクリレートをモノマーAとし、1〜28重量パーセントのアクリル酸および/またはメタクリル酸をモノマーBとし、さらに0〜60重量パーセントのラジカル共重合性モノマーまたはラジカル共重合性モノマー混合物をモノマーCとして、ラジカル重合することによって得ることができ、K値が10〜60であるアクリレートポリマーに関するものであり、ここでモノマーCのうちの少なくとも一つはガラス転移点が30°C未満であるホモポリマーを形成し、前記重量パーセントは合計すると100となる。このラジカル重合はC10〜C22である炭素鎖長を持つアルカンチオールの存在下で行われ、続いて過酸化水素により処理が行われる。本発明はまたこれらのアクリレートポリマーの皮膜形成剤としての使用、および化粧品への使用に関する。
Claim (excerpt):
30〜99重量%のt-ブチルアクリレートおよび/またはt-ブチルメタクリレート(モノマーA)、 1〜28重量%のアクリル酸および/またはメタクリル酸(モノマーB)、ならびに 0〜60重量%のラジカル共重合性モノマーまたはラジカル共重合性モノマー混合物(モノマーC)、ここでモノマーCのうちの少なくとも1種はガラス転移点が30°C未満であるホモポリマーを形成する、 (ここで、前記重量%は合計すると100となる) をC14〜C22の炭素鎖長を持つアルカンチオールの存在下でラジカル重合することによって得られる、K値が10〜60であるアクリレートポリマー。
IPC (5):
C08F220/18 ,  A61K7/00 ,  A61K7/11 ,  C08F2/44 ,  C08F220/06
FI (5):
C08F220/18 ,  A61K7/00 J ,  A61K7/11 ,  C08F2/44 B ,  C08F220/06
F-Term (44):
4C083AC012 ,  4C083AC102 ,  4C083AC172 ,  4C083AC352 ,  4C083AC542 ,  4C083AC642 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083BB33 ,  4C083BB49 ,  4C083CC01 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC07 ,  4C083CC12 ,  4C083CC13 ,  4C083CC14 ,  4C083CC17 ,  4C083CC18 ,  4C083CC21 ,  4C083CC31 ,  4C083CC32 ,  4C083CC33 ,  4C083CC34 ,  4C083CC36 ,  4C083CC38 ,  4C083DD08 ,  4C083DD23 ,  4C083DD32 ,  4C083DD33 ,  4C083DD41 ,  4C083EE07 ,  4C083EE25 ,  4C083FF01 ,  4J011PA45 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03P ,  4J100CA04 ,  4J100DA00 ,  4J100JA61
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page