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J-GLOBAL ID：200903068361891383

抗菌作用増強法

Inventor： 山口 靖英 ,  山崎 正敏 ,  藤嶋 昭 ,  橋本 和仁
Applicant, Patent owner： 三井金属鉱業株式会社 ,  藤嶋 昭 ,  橋本 和仁
Agent (1)： 山下 穣平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995046895
Publication number (International publication number)：1996243551
Application date： Mar. 07, 1995
Publication date： Sep. 24, 1996
Summary：

【要約】【構成】 光溶解性のある半導体を水性液中又は空気中に配置し、これに紫外線を含む光を照射することからなる抗菌作用増強法。【効果】 本発明により、光溶解性のある半導体からの金属イオンの溶出量を増大させて抗菌作用を増強することができ、特に紫外線を含む光の照射時間、照射強度を制御することにより抗菌作用を所望程度に増強することができる。

Claim (excerpt)：

光溶解性のある半導体を水性液中又は空気中に配置し、これに紫外線を含む光を照射することを特徴とする抗菌作用増強法。

IPC (8)：

C02F 1/30 ,  A61L 2/16 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 560

FI (11)：

C02F 1/30 ,  A61L 2/16 Z ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 510 D ,  C02F 1/50 510 E ,  C02F 1/50 520 A ,  C02F 1/50 520 J ,  C02F 1/50 520 Z ,  C02F 1/50 531 U ,  C02F 1/50 540 F ,  C02F 1/50 560 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光触媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-146616   Applicant：日本電池株式会社