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J-GLOBAL ID：200903068449475428

インプリントリソグラフィー用移動ステージ

Inventor： 廣島 洋 ,  古室 昌徳
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001267764
Publication number (International publication number)：2003077867
Application date： Sep. 04, 2001
Publication date： Mar. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】 試料側に傾斜調整機構を取り付け、移動機構をにより試料を移動させたときでも、モールドを試料の表面に対して均一に押圧可能とする。【解決手段】 平らな表面をもつ定盤8の略中心に支柱11を固定し、支柱11の上端面に傾斜調整機構としてのピボット12を固定する。定盤8の平面上を移動する移動機構10に移動ステージ6を固定し、移動ステージ6に弾性部材7を介して試料保持部材5を支持し、試料保持部材5によって表面にレジスト4を備えたシリコン基板3を保持する。ピボット12の直上にモールド2を上下動自在に配置し、モールド2の直下にモールドを転写するレジストの表面が位置するように移動機構10を移動する。所定位置でモールドをレジストに対して押圧すると、モールドとシリコン基板3が相対的に傾斜している場合でも両者が平行になるように弾性部材7が変形し、レジストに対して均一な押圧力を与えることができる。

Claim (excerpt)：

定盤上の支柱に固定した傾斜調整機構と、定盤上を移動可能に設けた移動ステージと、前記移動ステージ上に弾性部材を介して支持した試料と、前記傾斜調整機構の上部に対向して上下動自在に配置し、試料表面のレジストを押圧するモールドとを備えたことを特徴とする、インプリントリソグラフィー用移動ステージ。

IPC (2)：

H01L 21/30 ,  H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 ,  H01L 21/68 N

F-Term (10)：

5F031CA02 ,  5F031HA12 ,  5F031HA50 ,  5F031HA52 ,  5F031HA53 ,  5F031MA21 ,  5F046AA28 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046CC11