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J-GLOBAL ID：200903068517102252

リソグラフィ投影装置およびそれを使用したデバイスの製造方法

Inventor： イイムブン パトリック、クワン ,  エンゲルベルトゥス アントニウス フランシスクス、ファン デ パシュ ,  アンドレアス ベルナルドゥス ゲラルドゥス、アリエンス ,  ロバート - ハン、ムニック シュミット ,  ヤン フレデリック、ホークカムプ ,  エドウィン ヨハン、ブイス
Applicant, Patent owner： エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000385644
Publication number (International publication number)：2001223159
Application date： Dec. 19, 2000
Publication date： Aug. 17, 2001
Summary：

【要約】【課題】 マスクまたは基板を載せるテーブルを複数有するリソグラフィ投影装置に於いて、異なる作業区域間でこれらのテーブルを交換する際に、制御ソフトウェアエラー、電源故障等の不測の事態でも、テーブル間の衝突を避けるための手段を備える装置を提供すること。【解決手段】 この衝突防止手段は、基板テーブルWTa、WTbが作業区域20から30へ、またはその逆に動く経路に沿って物理的障害物、190、170、180、200を迷路状に設けて適正な経路以外は通行できなくする。この交換中、各テーブルを、それぞれ、シャトルCS1、CS2に結合し、これらのシャトルを鎖等で連結して両者が同期してしか動けなくし、それによって衝突を避ける。

Claim (excerpt)：

リソグラフィ投影装置であって:放射線の投影ビームを供給するための照明システム;所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターニングすることが出来るパターニング手段を保持するための第1物体テーブル;各々基板を保持するための第2および第3可動物体テーブルで、少なくとも第1および第2作業区域を含む運動の共通範囲に亘って動き得るテーブル;パターン化したビームを基板の目標部分上に結像するための投影システム、および前記第2および第3物体テーブルを動かすためのテーブル位置決め手段;を含み:前記第2および第3物体テーブル間の衝突を避けるために前記第2および第3物体テーブルの少なくとも一つの運動を物理的に制限する衝突防止手段を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00

FI (3)：

G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-333241   Applicant：株式会社ニコン
• 投影露光装置及び投影露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-332845   Applicant：株式会社ニコン