電子ビーム照射装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松隈秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000057374
Publication number (International publication number)：2001242300
Application date： Mar. 02, 2000
Publication date： Sep. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】電子ビームの散乱を効果的に回避し、しかも大掛かりな真空チェンバを設けることを回避することができるようにした電子ビーム照射装置を提供する。【解決手段】電子ビーム2が照射される被電子ビーム照射体3を支持する支持部4と、被電子ビーム照射体に対して微小間隔をもって対向し、被電子ビーム照射体3に電子ビーム2を照射する電子ビーム出射孔5を有する電子ビーム照射ヘッド6とを具備して成る。そして、その電子ビーム照射ヘッド6には、電子ビーム出射孔5に連通する電子ビームの通路20が設けられると共に、この電子ビーム出射孔5を中心にその周囲に、被電子ビーム照射体との対向面に開口する1つ以上のリング状気体吸引溝61,62が形成され、電子ビーム通路20とリング状気体吸引溝61,62には真空ポンプが連結されて、電子ビーム通路が高真空度に保持される構成とする。

Claim (excerpt)：

電子ビームが照射される被電子ビーム照射体を支持する支持部と、上記被電子ビーム照射体に対して微小間隔をもって対向し、上記被電子ビーム照射体に電子ビームを照射する電子ビーム出射孔を有するヘッドとを具備し、該電子ビーム照射ヘッドに、上記電子ビーム出射孔に連通する電子ビームの通路を中心にその周囲に、上記被電子ビーム照射体との対向面に開口する1つ以上のリング状気体吸引溝が形成され、上記電子ビーム通路と上記リング状気体吸引溝には排気手段が連結されて、上記電子ビーム通路が高真空度に保持されるようにしたことを特徴とする電子ビーム照射装置。

IPC (7)：

G21K 5/04 , G11B 7/26 , G11B 11/105 546 , G21K 5/00 , H01J 37/09 , H01J 37/30 , H01J 37/305

FI (9)：

G21K 5/04 M , G21K 5/04 D , G11B 7/26 , G11B 11/105 546 D , G21K 5/00 W , G21K 5/00 A , H01J 37/09 A , H01J 37/30 A , H01J 37/305 B

F-Term (10)：

5C033BB01 , 5C034AA02 , 5C034AA04 , 5C034BB06 , 5C034BB10 , 5D075EE03 , 5D075GG16 , 5D075GG20 , 5D121AA02 , 5D121BB40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (17)

特開昭59-090926
特開昭59-090926
特開平1-128525

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