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J-GLOBAL ID：200903068609435290

抗菌剤担体用シリカゲル及び抗菌剤

Inventor：
森 寛

About 森 寛

, 
加藤 波奈子

About 加藤 波奈子


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 真田 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001401402
Publication number (International publication number)：2003206204
Application date： Dec. 28, 2001
Publication date： Jul. 22, 2003
Summary：
【要約】【課題】 抗菌剤担体用シリカゲルにおいて、抗菌効果を向上させ、シャープな細孔分布に基づく新規な機能を付加でき、さらに、低コストで製造できるようにする。【解決手段】 細孔内に所定の抗菌成分が担持される、抗菌剤担体用シリカゲルであって、(a)細孔容積が0.6〜2.0ml/gであり、(b)比表面積が300〜1000m2/gであり、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が全細孔の総容積の50%以上であり、(e)非晶質であり、(f)金属不純物の総含有率が500ppm以下であり、(g)固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトをδ(ppm)とした場合、δが下記式(I)を満足するようにする。 -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・式(I)
Claim (excerpt)：
細孔内に所定の抗菌成分が担持される、抗菌剤担体用シリカゲルであって、(a)細孔容積が0.6〜2.0ml/gであり、(b)比表面積が300〜1000m2/gであり、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の50%以上であり、(e)非晶質であり、(f)金属不純物の総含有率が500ppm以下であり、(g)固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトをδ(ppm)とした場合に、δが下記式(I) -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・式(I)を満足することを特徴とする、抗菌剤担体用シリカゲル。
IPC (3)：
A01N 25/12 101 ,  A01N 59/16 ,  C01B 33/12
FI (3)：
A01N 25/12 101 ,  A01N 59/16 A ,  C01B 33/12 Z
F-Term (22)：
4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB15 ,  4G072CC10 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072MM01 ,  4G072RR05 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072TT30 ,  4G072UU17 ,  4H011AA01 ,  4H011AA03 ,  4H011BA01 ,  4H011BB18 ,  4H011BC18 ,  4H011DA02 ,  4H011DD05 ,  4H011DF02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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