Pat
J-GLOBAL ID:200903068741487992

粗製無水酢酸の精製法及び無水酢酸を用いたポリオキシテトラメチレングリコールの製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): ▲吉▼川 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000039180
Publication number (International publication number):2001226319
Application date: Feb. 17, 2000
Publication date: Aug. 21, 2001
Summary:
【要約】【課題】 PTMG等の品質を向上し得る粗製無水酢酸の精製法を提供する。【解決手段】 粗製無水酢酸の精製法において、粗製無水酢酸を蒸留した後、オゾン発生器1で発生させたオゾン含有空気と、蒸留後の粗製無水酢酸とを充填塔2に送ってオゾン処理する。このように蒸留後にオゾン処理することで、ジケテン含有量が検出限界以下の精製無水酢酸を得ることができ、この無水酢酸を用いることによって、殆ど無色透明で色相に優れたPTMGを製造することができる。
Claim (excerpt):
蒸留した後にオゾン含有ガスで処理することを特徴とする粗製無水酢酸の精製法。
IPC (3):
C07C 51/573 ,  C07C 53/12 ,  C08G 65/20
FI (3):
C07C 51/573 ,  C07C 53/12 ,  C08G 65/20
F-Term (5):
4H006AA02 ,  4H006AD11 ,  4H006AD30 ,  4J005AA08 ,  4J005BB02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page