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J-GLOBAL ID：200903068809355143

情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法

Inventor： 後藤 直雪 ,  平本 靖男
Applicant, Patent owner： 株式会社オハラ
Agent (1)： 坂本 徹 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999083139
Publication number (International publication number)：2000273444
Application date： Mar. 26, 1999
Publication date： Oct. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法において、研磨加工後の基板表面特性を著しく向上させる情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法を提供する。【解決手段】 情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法において、研磨液中の研磨材としてZrO2および/またはAl2O3を用い両面研磨加工を行う。

Claim (excerpt)：

情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板において、研磨加工における研磨液中の研磨材が、ZrO2および/またはAl2O3であることを特徴とする情報記憶媒体用ガラスセラミックスの研磨加工方法。

IPC (8)：

C09K 3/14 550 ,  B24B 1/00 ,  B24B 37/00 ,  B24D 3/00 ,  C03C 19/00 ,  G11B 5/84 ,  C03C 3/087 ,  C03C 3/097

FI (8)：

C09K 3/14 550 D ,  B24B 1/00 D ,  B24B 37/00 H ,  B24D 3/00 ,  C03C 19/00 Z ,  G11B 5/84 Z ,  C03C 3/087 ,  C03C 3/097

F-Term (84)：

3C049AA07 ,  3C049AA09 ,  3C049AA18 ,  3C049AC04 ,  3C049CA01 ,  3C049CA06 ,  3C049CB01 ,  3C049CB03 ,  3C049CB10 ,  3C058AA07 ,  3C058AA18 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  3C063BB03 ,  3C063BB07 ,  3C063BB19 ,  3C063EE01 ,  3C063EE16 ,  4G059AA09 ,  4G059AC03 ,  4G062AA18 ,  4G062DA06 ,  4G062DA07 ,  4G062DB03 ,  4G062DB04 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DD03 ,  4G062DE01 ,  4G062DE02 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA03 ,  4G062EA04 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062EC03 ,  4G062ED01 ,  4G062ED02 ,  4G062ED04 ,  4G062EE01 ,  4G062EE03 ,  4G062EF01 ,  4G062EF03 ,  4G062EG01 ,  4G062EG03 ,  4G062FA01 ,  4G062FB01 ,  4G062FB03 ,  4G062FC01 ,  4G062FC02 ,  4G062FC03 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA03 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ04 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM27 ,  4G062MM28 ,  4G062QQ03 ,  4G062QQ16 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112GA14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

• 結晶化ガラスの精密研磨方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-154986   Applicant：山村硝子株式会社
• ガラス製品の製造方法およびフィルター
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-086600   Applicant：ホーヤ株式会社
• 磁気ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-295937   Applicant：東洋鋼鈑株式会社
• 特公昭63-031343
  
• 磁気記録媒体基板製造用研磨材組成物及び磁気記録媒体用基板の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-258029   Applicant：花王株式会社
• 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法並びに該基板を用いた磁気記録媒体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-357205   Applicant：ホーヤ株式会社
• 磁気ディスク用基板およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-174895   Applicant：日本碍子株式会社
• 特開平1-097562
  
• 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-126898   Applicant：株式会社オハラ
• 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-318838   Applicant：株式会社オハラ
• 磁気ディスク基板の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-306840   Applicant：株式会社オハラ