廃棄物のガス化処理装置および炉壁セルフコーティング方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：村上友一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997212507
Publication number (International publication number)：1999035949
Application date： Jul. 23, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】流動層ガス化炉による一次ガス化と高温酸化炉による二次ガス化を行うに際して、高温酸化炉の炉壁の耐久性を増大させる。【解決手段】有機性廃棄物を供給して一次ガス化させる流動層を用いたガス化炉と、前記流動層ガス化炉にて得られたガス状物を導入し高温にて二次ガス化する高温酸化炉とを有する廃棄物のガス化処理装置である。高温酸化炉の炉壁を水管が内蔵されたボイラ壁構造または水冷ジャケット壁構造とし、高温酸化炉にて生成されるスラグもしくは溶融飛灰の一部を流動層ガス化炉、高温酸化炉あるいは両炉間のガス状物経路中に供給する灰循環供給ラインを設け、高温酸化炉へ導入されるガス状物に同伴させて二次ガス化時に炉壁に堆積コーティング層を形成させる。あるいは、流動層ガス化炉、高温酸化炉、あるいは両炉間のガス状物経路中に外部から導入した焼却灰等の灰補充ラインを設けることもできる。

Claim (excerpt)：

有機性廃棄物を供給して低温下にて一次ガス化させる流動層を用いたガス化炉と、前記流動層ガス化炉にて得られたガス状物を導入し高温下にて二次ガス化する高温酸化炉とを有する廃棄物のガス化処理装置において、前記高温酸化炉の炉壁を水管が内蔵されたボイラ壁構造または水冷ジャケット壁構造とし、前記高温酸化炉あるいは後段の除塵装置にて回収されるスラグもしくは溶融飛灰の一部を流動層ガス化炉、高温酸化炉あるいはその間のガス状物経路に供給する灰循環供給ラインを設け、高温酸化炉に導入されるガス状物に同伴させて二次ガス化時に炉壁に堆積灰コーティング層を常時形成可能としたことを特徴とする廃棄物のガス化処理装置。

IPC (7)：

C10J 3/00 ZAB , C10J 3/20 , C10J 3/24 , F23G 5/027 , F23G 5/027 ZAB , F23G 5/48 ZAB , F23M 5/08

FI (7)：

C10J 3/00 ZAB A , C10J 3/20 , C10J 3/24 , F23G 5/027 , F23G 5/027 ZAB B , F23G 5/48 ZAB , F23M 5/08 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

プラスチック系廃棄物ガス化ガスの処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-212897 Applicant：川崎重工業株式会社
特開平2-150611
特開昭62-025165

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