回折光学素子

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村暁秀 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996138646
Publication number (International publication number)：1997325203
Application date： May. 31, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】容易に製造でき、しかも回折効率の波長依存を低減して、フレアやゴースト等の発生を有効に防止できる回折光学素子を提供する。【解決手段】密接または近接して順次に積層した第1、第2、第3および第4の領域(11,12,13,14) と、第1および第2の領域(11,12) の境界面に形成した第1のレリーフパターン(21)と、第3および第4の領域(13,14) の境界面に形成した第2のレリーフパターン(22)とを有し、第1、第2、第3および第4の領域(11,12,13,14) は、使用する光の波長で実質的に透明な少なくとも3種類の材料で、かつ第1の領域11と第2の領域12、および第3の領域13と第4の領域14とが、それぞれ互いに異なる材料をもって構成され、第1および第2のレリーフパターン(21,22) は、実質的に等しいピッチ分布で、互いに異なる溝深さを有し、それらの対応する部位が近接して配置されていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

密接または近接して順次に積層した第1、第2、第3および第4の領域と、前記第1および第2の領域の境界面に形成した第1のレリーフパターンと、前記第3および第4の領域の境界面に形成した第2のレリーフパターンとを有し、前記第1、第2、第3および第4の領域は、使用する光の波長で実質的に透明な少なくとも3種類の材料で、かつ前記第1の領域と第2の領域、および前記第3の領域と第4の領域とが、それぞれ互いに異なる材料をもって構成され、前記第1および第2のレリーフパターンは、実質的に等しいピッチ分布で、互いに異なる溝深さを有し、それらの対応する部位が近接して配置されていることを特徴とする回折光学素子。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平2-296205
特開平3-052893
特開平3-213802

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