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J-GLOBAL ID：200903069121965203

接触反応管・回転ディスク反応器方式によるゼオライトの連続製造方法および連続製造装置

Inventor：
霜田 敏雄

About 霜田 敏雄


Applicant, Patent owner：
霜田 敏雄

About 霜田 敏雄


Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000381616
Publication number (International publication number)：2002187715
Application date： Dec. 15, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：
【要約】【課題】 原料の種類や混合比の違いによる反応条件の変更が容易で、大量のゼオライトの製造にも対応可能であると共に安価に製造することができるゼオライトの連続製造方法及び連続製造装置を提供する。【解決手段】 任意のSi/Al比からなる固体原料及び/又は液体原料とアルカリ水溶液とを含有するゼオライト原料が所定の条件に設定された接触反応管15内を連続的に通過する管接触反応工程3と、その管接触反応工程3後におけるゼオライト中間組成物が多段の回転ディスク20を備える回転ディスク接触反応器16内を徐々に降下しながらその回転ディスク20で撹拌されて所望のゼオライトが生成される回転ディスク接触反応工程4と、を少なくとも有する接触反応管・回転ディスク反応器方式によるゼオライトの連続製造方法・装置によって、上記課題を解決する。
Claim (excerpt)：
任意のSi/Al比からなる固体原料及び/又は液体原料とアルカリ水溶液とを含有するゼオライト原料が所定の条件に設定された接触反応管内を連続的に通過してゼオライト中間組成物が生成される管接触反応工程と、前記ゼオライト中間組成物が回転ディスク接触反応器内に設けられた多段の回転ディスクで順次撹拌されて所望のゼオライトが生成される回転ディスク接触反応工程と、を少なくとも有することを特徴とする接触反応管・回転ディスク反応器方式によるゼオライトの連続製造方法。
IPC (2)：
C01B 39/02 ,  B01J 3/00
FI (2)：
C01B 39/02 ,  B01J 3/00 A
F-Term (9)：
4G073CZ01 ,  4G073CZ02 ,  4G073CZ03 ,  4G073CZ08 ,  4G073CZ16 ,  4G073FB03 ,  4G073FB04 ,  4G073FC01 ,  4G073FD02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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