可燃性ガス濃度低減装置及びその制御方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996107196
Publication number (International publication number)：1997292491
Application date： Apr. 26, 1996
Publication date： Nov. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】可燃性ガス濃度低減装置において、シビアアクシデントのように大量の水素ガスが発生した場合の余剰水素ガスを効率良く処理する。【解決手段】原子炉格納容器内に複数配置される可燃性ガス濃度低減装置100は、収納容器3内に水素ガスと酸素ガスを反応させる触媒1を収納する。さらに、触媒1に酸素を含むガスを供給するノズル3、配管4、弁6を有するガス供給手段と、格納容器内の可燃性ガス(水素、酸素)の濃度を検出する検出管7と濃度計8を有する濃度検出手段と、前記濃度検出手段が検出したガス濃度に基づいて弁6を開閉する制御系(点線)からなる。余剰水素ガスのある場合、収納容器3内に酸素ガスを供給して、触媒1で余剰水素ガスと反応させる。

Claim (excerpt)：

水素ガスと酸素ガスを反応させる触媒と、その触媒を収納した収納容器を備え、原子炉格納容器内に複数配置された可燃性ガス濃度低減装置において、前記収納容器内の前記触媒の下方位置に、水素ガス吸収体を配置したことを特徴とする可燃性ガス濃度低減装置。

IPC (3)：

G21D 3/08 , G21F 9/02 ZAB , G21F 9/02 541

FI (3)：

G21D 3/08 F , G21F 9/02 ZAB , G21F 9/02 541 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平3-200097
特開昭47-017696
静的可燃性ガス濃度制御系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-010745 Applicant：株式会社日立製作所

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