処理方法及びそれを用いた処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高梨幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995178236
Publication number (International publication number)：1997005650
Application date： Jun. 21, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：

【要約】【目的】物体面から像面にいたる基準波長の光路(基準軸)が曲面と交わる点において面法線が基準軸と一致しない平面ではない曲面(Off-Axial曲面)を含む光学系の、基準軸のまわりに展開した近軸量を計算する光学系の近軸計算に好適な処理方法及びそれを用いた処理装置を得ること。【構成】物体面から像面にいたる基準波長の基準光線の基準軸が曲面と交わる点において面法線が基準軸と一致しない平面ではないOff-Axial曲面を含む光学系の、該基準軸のまわりに展開する手法で計算式が得られるガウシャンブラケットのA,D,B,Φ,焦点距離、2つの主点位置、倍率β、バックフォーカスの近軸量の少なくとも1つを各面毎または全系にわたって計算するようにしたこと。

Claim (excerpt)：

物体面から像面にいたる基準波長の基準光線の基準軸が曲面と交わる点において面法線が基準軸と一致しない平面ではないOff-Axial曲面を含む光学系の、該基準軸のまわりに展開する手法で計算式が得られるガウシャンブラケットのA,D,B,Φ,焦点距離、2つの主点位置、倍率β、バックフォーカスの近軸量の少なくとも1つを各面毎または全系にわたって計算するようにしたことを特徴とする処理方法。

IPC (3)：

G02B 25/00 , G02B 27/00 , G06F 17/50

FI (3)：

G02B 25/00 A , G02B 27/00 , G06F 15/60 680 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

オフアクシス反射屈折型投影光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-336469 Applicant：株式会社ニコン
特開平1-319718
特開平1-303411

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