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J-GLOBAL ID：200903069368299230

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  青合 利明 ,  藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997025369
Publication number (International publication number)：1998221854
Application date： Feb. 07, 1997
Publication date： Aug. 21, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高解像力を有し、かつパターン上部の窪みを発生させることが無く、基板との密着の良好なレジストパターンを形成する優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 (a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が特定の構造の基で置換されている樹脂と、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(I)の基で置換されている樹脂と、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1は炭素数1から4までのアルキル基から選ばれた置換基を表す、Wは、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、珪素原子のうち少なくとも1つの原子を含有する有機残基、あるいはアミノ基、アンモニウム基、メルカプト基の群から選ばれた原子団である。また、nは1から4までの自然数を表す。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-136075   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-187928   Applicant：日本合成ゴム株式会社