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J-GLOBAL ID：200903069380453270

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法

Inventor： 松尾 正 ,  大久保 欽司 ,  原口 崇
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996127395
Publication number (International publication number)：1997311431
Application date： May. 22, 1996
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】位相シフト法により得られる高解像のパターン転写を可能ならしめるハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】透明性基板上に半透明遮光膜パターンが形成されたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記半透明遮光膜パターン上及び半透明遮光膜が除去された透明性基板上の両方とも、露光波長に対して消衰係数が0.1以下の透明性薄膜で被覆されており、さらに、前記透明性薄膜が二酸化珪素膜または酸化ジルコニウム膜で形成されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法。

Claim (excerpt)：

透明性基板上に半透明遮光膜パターンが形成されたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記半透明遮光膜パターン上及び半透明遮光膜が除去された透明性基板上の両方とも、露光波長に対して消衰係数が0.1以下の透明性薄膜で被覆されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 位相シフトマスクおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-258097   Applicant：凸版印刷株式会社