Pat
J-GLOBAL ID：200903070339283021
位相シフトマスクおよびその製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994258097
Publication number (International publication number)：1996123008
Application date： Oct. 24, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】マスク洗浄に耐えうるハーフトーン型の位相シフトマスクおよびその製造方法を提供する。【構成】透明基板1上に半透明な位相シフト層を設け、位相シフト層を透過した光の強度がこの透過した光により露光されるフォトレジストの感度以下になるような透過率を有するハーフトーン型の位相シフトマスク2′において、マスク最表面に保護膜4を設けることを特徴とする位相シフトマスク2′で、実施態様としては、位相シフト層がモリブデンシリサイドの窒化酸化膜からなり且つ保護膜4が酸化シリコン膜からなっている。また、透明基板1上に半透明な位相シフト層を設け、フォトリソグラフィー工程を経て位相シフト層をパターニングし、ハーフトーン型位相シフトマスク2′を形成した後、最表面に保護膜4を設けることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
Claim (excerpt)：
透明基板上に半透明な位相シフト層を設け、前記位相シフト層を透過した光の強度がこの透過した光により露光されるフォトレジストの感度以下になるような透過率を有するハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、マスク最表面に保護膜を設けることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (3)：
G03F 1/08
, G03F 1/14
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
Cited by examiner (7)
Show all
Return to Previous Page
