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J-GLOBAL ID：200903069440943280

真空中パーティクルカウンタ

Inventor： 土屋 政義 ,  平出 弥博
Applicant, Patent owner： 土屋 政義
Agent (1)： 森田 雄一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995079912
Publication number (International publication number)：1996247923
Application date： Mar. 10, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 真空装置の真空度を損なわず、粒子個数及び粒径の測定をリアルタイムで安定かつ高精度に行う。保守性を向上させる。センサ及びX-Yスキャナからなる小型かつ安価な装置を提供する。【構成】 真空装置内に発塵した粒子に光源からパルス状の検出光を照射し、その散乱光を光検出器により検出して粒子の個数、大きさを検出する真空中パーティクルカウンタに関する。真空装置内部に連通する空間にサンプリングガラス22を交換可能かつ気密的に配置し、その下方に光源、光検出器等を有するセンサ7を配置すると共に、前記検出光がサンプリングガラス22の所定範囲をスキャンするようにセンサ7をX-Y平面上で移動可能とする。光源からガラス22を介し検出光を照射してガラス表面の検出面22a上に沈降した粒子からの散乱光に基づき、検出面22a上の粒子の個数及び大きさを検出する。

Claim (excerpt)：

真空装置内に発塵した粒子に光源からパルス状の検出光を照射し、その散乱光を光検出器により検出して前記粒子の個数及び大きさを検出する真空中パーティクルカウンタにおいて、真空装置内部に連通する空間にサンプリングガラスを交換可能かつ気密的に配置し、このサンプリングガラスの下方に光源、光検出器及びレンズ等の光学系を有するセンサを配置すると共に、前記検出光がサンプリングガラスの所定範囲をスキャンするようにセンサ及びサンプリングガラスをX-Y平面上で相対的に移動可能に構成し、光源からサンプリングガラスを介し検出光を照射してサンプリングガラスの表側の検出面上に沈降した粒子からの散乱光に基づき検出面上の粒子の個数及び大きさを検出することを特徴とする真空中パーティクルカウンタ。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 表面異物検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-126136   Applicant：ソニー株式会社
• 特開平1-138447
  
• 特開平1-138447