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J-GLOBAL ID：200903069493001464

洗浄方法および装置

Inventor： 前川 敏郎 ,  小野 耕司 ,  岡田 素明 ,  高橋 圭瑞 ,  三島 志朗 ,  小寺 雅子 ,  重田 厚 ,  青木 利一郎 ,  河野 義介
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所 ,  株式会社東芝
Agent (1)： 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995129588
Publication number (International publication number)：1996071511
Application date： Apr. 28, 1995
Publication date： Mar. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 サブミクロンレベルのパーティクルに対して効果的な洗浄を行うことができ、また、基板表面に頑強に付着しているパーティクルや表面の微細な傷(マイクロスクラッチ)を表面を薄く削り取ることによって除去し、さらに洗浄時はパーティクルを保持し洗浄後にセルフクリーニングが容易な洗浄方法およびその装置を提供する。【構成】 被洗浄物との接触面に平均細孔サイズで10から200μmの微細な孔を有するポリウレタンを主成分とする洗浄部材3を被洗浄物に当接させてスクラブ洗浄する。

Claim (excerpt)：

被洗浄物との接触面に平均細孔サイズで10から200μmの微細な孔を有するポリウレタンを主成分とする洗浄部材を被洗浄物に当接させてスクラブ洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (2)：

B08B 1/00 ,  H01L 21/304 341

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 基板洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-257209   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社