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J-GLOBAL ID：200903069630090429

従来の解像度限界を超える光学的リソグラフィ

Inventor： ハンス・ビーブイク ,  ブルーノ・ミシェル ,  ハインツ・シュミット
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
Agent (1)： 坂口 博 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000513173
Publication number (International publication number)：2001517865
Application date： Sep. 19, 1997
Publication date： Oct. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 既存の光源を使用して、光学的リソグラフィ・システムの使用を350nmより充分に低いフィーチャ・サイズ、具体的にはλ/2〜λ/5の範囲のフィーチャ・サイズまで延長できる、新しい光学的フォトリソグラフィ方式を提供する。【解決手段】 光カップリング構造、特にエラストマーの光カップリング構造を利用する光学的リソグラフィ方式を記述する。これらの光カップリング構造は、突起部24および接続部29を含む。突起要素24内に導かれた光がそこから直接レジスト11に結合されるように、突起要素24は露光対象のレジスト11と共形接触するように設計する。突起要素24の横方向の形状およびサイズが、レジストで露光される小さいフィーチャ30の横方向のサイズおよび形状を1:1で規定する。

Claim (excerpt)：

露光光(13)でレジスト(11)を露光するためのマスクとして使用するための光カップリング構造(20、40)であって、 露光光(13)をその端部に向かって導く突起部(24、42、43、44)であって、露光光(13)が前記端部からレジスト(11)中に直接結合され、前記端部がレジスト(11)中の露光される構造の横方向形状を有する突起部と、 前記突起部(24、42、43、44)を接続し、かつ突起部(24、42、43、44)を通して露光される領域以外のレジスト(11)の領域が露光光(13)で露光されるのを防止する接続部(29)とを含み、 光カップリング構造(20、40)が屈折率レリーフを有し、露光光(13)が内部反射によって前記突起部(24、42、43、44)に向かって導かれる、光カップリング構造。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

G03F 1/08 Z ,  G03F 1/14 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 505

F-Term (8)：

2H095BA04 ,  2H095BA07 ,  2H095BB27 ,  2H095BE03 ,  5F046AA25 ,  5F046BA01 ,  5F046CB17 ,  5F046DA24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• リソグラフィ方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-206087   Applicant：畑村洋太郎