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J-GLOBAL ID：200903049349440681
リソグラフィ方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996206087
Publication number (International publication number)：1998048810
Application date： Aug. 05, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：
【要約】【課題】 露光線幅が細く、露光所要時間が短く、かつ、通常の安価線源装置を用いることができるリソグラフィ方法を提供すること。【解決手段】 基板3上にはレジスト層4が塗布されている。一方、ガラス板10には凸部10aと凹部10bにより所要のパタンが作成されている。凸部10aをレジスト層4に密着、押し込み、又は近接した状態で紫外線11をガラス板10の裏面に全反射させると、ガラス板10のおもて面の凹凸面に沿って10nmオーダの厚みで局在する光(しみだし光)が発生する。このしみだし光により、凸部10aに面対するレジスト層4んお部分4aが感光する。感光したレジスト層4を現像すると図1の(b)に示すように感光した部分のレジスト層4aが残り、ガラス板10の凸部10aのパタンが転写される。
Claim (excerpt)：
基板にレジスト層を設け、このレジスト層に任意のパタンを露光させるリソグラフィ方法において、前記パタンに対応する凹凸が形成され、かつ、投射される光に対して透明な透明部材を、前記凹凸のうちの凸部が前記レジスト層に近接又は密着した状態で前記基板上に配置し、前記透明部材に前記光を投射し、これにより発生する前記凸部に局在する光により前記レジスト層を感光させることを特徴とするリソグラフィ方法。
IPC (3)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G03F 1/08 Z
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
