Pat

J-GLOBAL ID：200903069709988498

光断層画像化装置

Inventor： 戸井田 昌宏 ,  森島 嘉克
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005353161
Publication number (International publication number)：2006189424
Application date： Dec. 07, 2005
Publication date： Jul. 20, 2006
Summary：

【課題】生体組織の光吸収特性、散乱特性、分散特性から高分解能化に対する最適波長域の低コヒーレンス光を発生する光源により高分解能光断層画像化装置を実現する。【解決手段】光源ユニット210から、中心周波数(λc)1.1μm、スペクトル半値全幅(Δλ)75μmの低コヒーレンス光を射出する。この低コヒーレンス光は、光生体組織の光吸収特性、散乱特性、分散特性に適した波長特性を有している。光分割手段3 において、低コヒーレンス光を、光プローブ230を介して測定対象Sを照射する測定光と、光路長調整手段220方向へ向かう参照光とに分割し、また、測定対象Sの所定の深部で反射された反射光と参照光とを合波手段4において合波する。この合波された干渉光L4の光強度を干渉光検出手段240で検出し、画像取得手段250で画像処理を行い、表示装置260に光断層画像として表示する。【選択図】図9

Claim (excerpt)：

低コヒーレンス光を射出する光源部と、 前記低コヒーレンス光を測定光と参照光に分割する分割手段と、 前記測定光を測定対象に照射する照射光学系と、 前記参照光または前記測定光の光路長を変更する光路長変更手段と、 前記測定対象に前記測定光が照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、 合波された前記反射光と前記参照光の干渉光の光強度に基づいて、前記参照光の光路長と前記測定光および反射光の合計の光路長とが略一致する、前記測定対象の複数の深さ位置における反射光の強度を検出し、これらの各深さ位置における強度に基づいて測定対象の断層画像を取得する画像取得手段とを備えてなる光断層画像化装置において、 前記参照光および反射光の中心波長λcおよびスペクトル半値全幅Δλが、 λc2/Δλ≦23 λc+(Δλ/2)≦1.2μm λc-(Δλ/2)≧0.98μm を満たすものであることを特徴とする光断層画像化装置。

IPC (3)：

G01N 21/17 ,  A61B 10/00 ,  G01B 11/24

FI (3)：

G01N21/17 620 ,  A61B10/00 E ,  G01B11/24 D

F-Term (30)：

2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065CC16 ,  2F065FF41 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065GG07 ,  2F065GG08 ,  2F065GG21 ,  2F065LL02 ,  2F065LL10 ,  2F065LL21 ,  2F065LL46 ,  2F065MM16 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059PP04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 光断層イメージング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-319850   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 光イメージング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-339787   Applicant：オリンパス光学工業株式会社