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J-GLOBAL ID:200903070023728307
基板の回収方法及び基板処理装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
金本 哲男
, 亀谷 美明
, 萩原 康司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004200544
Publication number (International publication number):2006024684
Application date: Jul. 07, 2004
Publication date: Jan. 26, 2006
Summary:
【課題】 トラブルが発生した際に,基板処理装置内に残存する基板を,後の基板処理に悪影響を与えないように回収し,早期に基板処理を再開する。【解決手段】 塗布現像処理装置1内においてトラブルが発生したときに,塗布現像処理装置1内の総てのウェハWを,装置内の搬送ユニットを用いてカセットステーション2に回収する。この際,各搬送ユニットは,ウェハWを各位置からカセットステーション2の方向に向けて搬送し回収する。また,トラブルが発生した際に処理ユニット内において処理中のウェハWについては,当該処理が終了してから回収する。【選択図】 図5
Claim (excerpt):
基板を搬入出するための搬入出部と,基板を処理する複数の処理ユニットを備えた処理部と,前記搬入出部から搬入された基板を前記処理部の処理ユニットに順次搬送し,前記処理部において所定の処理の施された基板を前記搬入出部に戻すことができる基板搬送手段とを備えた基板処理装置において,前記基板処理装置内の基板を搬入出部に回収する方法であって,
トラブルが発生した場合に,基板処理装置内にある総ての基板を前記基板搬送手段によって前記搬入出部に回収し,
前記回収される基板のうち,前記処理ユニット内において処理中の基板については,当該処理ユニットにおける処理が終了してから回収することを特徴とする,基板の回収方法。
IPC (2):
H01L 21/677
, H01L 21/027
FI (2):
H01L21/68 A
, H01L21/30 562
F-Term (19):
5F031CA02
, 5F031FA01
, 5F031FA02
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA02
, 5F031MA23
, 5F031MA24
, 5F031MA28
, 5F031MA30
, 5F031PA02
, 5F031PA10
, 5F046AA17
, 5F046JA22
, 5F046KA07
, 5F046LA11
, 5F046LA18
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
吸収促進組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-017838
Applicant:ポーラ化成工業株式会社
Cited by examiner (2)
-
基板処理装置および基板処理システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-246709
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
特開平3-257945
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