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J-GLOBAL ID:200903070315842232

光学異方性フィルム、およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006263339
Publication number (International publication number):2008083394
Application date: Sep. 27, 2006
Publication date: Apr. 10, 2008
Summary:
【課題】光学異方性が制御された高分子フィルムにおいて、熱に対する安定性が改善された光学異方性フィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位とを構成単位として含む高分子重合体を含む組成物を、光照射により光学異方性を発現させた後、前記重合性基を架橋してなることを特徴とする光学異方性フィルム。【選択図】なし
Claim (excerpt):
重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位とを構成単位として含む高分子重合体を含む組成物。
IPC (2):
G02B 5/30 ,  C08F 220/30
FI (2):
G02B5/30 ,  C08F220/30
F-Term (27):
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB62 ,  2H049BC02 ,  2H049BC04 ,  2H049BC22 ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08P ,  4J100AL65Q ,  4J100AL74P ,  4J100BA02P ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA15P ,  4J100BB01P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC44P ,  4J100BC44Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC54P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA39
Patent cited by the Patent:
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