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J-GLOBAL ID：200903070369372797

材料の配置方法、膜形成装置、電子装置及びその製造方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器

Inventor：
宮澤 貴士

About 宮澤 貴士


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (3)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002226071
Publication number (International publication number)：2004071222
Application date： Aug. 02, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：
【課題】ノズルの吐出不良を迅速に検出し、不良品の削減を図り、また、材料の吐出状態を常に安定させることができる材料の配置方法、膜形成装置、電気光学装置及びその製造方法、電子装置、並びに電子機器を提供する。【解決手段】真空チャンバ(処理室)11内の圧力を低圧制御する圧力制御系12と、基体(部材)14上に材料を配置する少なくとも1つのノズル15と、基体14を保持する基体ステージ13とを備えてなり、ノズル15又は基体ステージ13の位置を相対的に移動させる駆動系(移動手段)17と、基体14上に配置された前記材料を検査する検出系(検査手段)19とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基体上に材料を配置する材料の配置方法であって、 高真空度に調整された真空雰囲気中に設置された前記基体の所定領域に向けて、少なくとも1つのノズルから材料を吐出する吐出ステップと、 前記吐出ステップの開始前に、前記真空雰囲気中で前記ノズルの吐出不良を検出する検出ステップと、 を備えることを特徴とする材料の配置方法。
IPC (8)：
H05B33/10 ,  B05D3/00 ,  B05D3/12 ,  B05D7/00 ,  G09F9/00 ,  H01L21/288 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22
FI (8)：
H05B33/10 ,  B05D3/00 D ,  B05D3/12 A ,  B05D7/00 H ,  G09F9/00 342Z ,  H01L21/288 Z ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z
F-Term (39)：
3K007AB04 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB07 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AC07 ,  4D075BB56X ,  4D075CA22 ,  4D075CA23 ,  4D075CB09 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB11 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC21 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EC07 ,  4D075EC11 ,  4M104DD51 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435EE37 ,  5G435EE41 ,  5G435HH01 ,  5G435HH12 ,  5G435HH13 ,  5G435HH14 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (13)
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Cited by examiner (13)
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