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J-GLOBAL ID:200903070408085598

ポリイミドプライマーをベースとするネガ型フォトレジスト組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997073067
Publication number (International publication number):1998055065
Application date: Mar. 26, 1997
Publication date: Feb. 24, 1998
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 ポリイミドプライマーをベースとするネガ型フォトレジスト組成物の提供。【解決手段】 このフォトレジストは、次のa)式(I)の反復する構造単位(式中、A1は酸素原子またはNH基、R1は光重合性のオレフィン二重結合の残基、〔X〕はテトラカルボン酸の環式二無水物の残基、Yはジアミンの残基を表わす)を含むポリイミドプライマーb)オレフィン二重結合を重合させるための光開始剤c)c1)一つまたはそれより多くのヒドロキシル基を有する有機シリコン化合物、c2)式(IIa)の化合物、c3)式(IIb)を有する化合物、およびc4)c1)、c2)およびc3)の型の成分から選択される二つまたはそれより多くの成分からなる混合物からなる群から選択される別な成分を少なくとも一つ含む。
Claim (excerpt):
a)式(I)の反復する構造単位【化1】(式中、A1は酸素原子またはNH基を表わし、R1光重合性のオレフィン二重結合を有する同一のまたは異なる残基を表わし、〔X〕は無水物基を除去した後に残る、同一または異なるテトラカルボン酸の環式二無水物の残基を表わし、そしてYはアミノ基の除去の後に残る、同一のまたは異なるジアミンの残基を表わす)を含むポリイミドプライマーと、b)オレフィン二重結合を重合させるための光開始剤とを含み、さらにc)c1)一つまたはそれより多くのヒドロキシル基を有する有機シリコン化合物、c2)式(IIa)【化2】(式中互いに独立なA2およびA3は酸素原子をまたは、Rが水素原子またはC1〜C4アルキル基を示すとしたNR基を表わし、そして〔G〕は置換されていないあるいは一つまたはそれより多くのヒドロキシル置換基を有する脂肪族または芳香族の2価の基を表わし、R2は組成物の水性アルカリ媒体中の溶解度を改善する一つまたはそれより多くの置換基を有するアリール残基を示し、R3は光重合性オレフィン二重結合を少なくとも一つ有する残基を表わし、そして互いに独立なyおよびzは0または1を表わす)の化合物、c3)式(IIb)【化3】(式中、R0は光重合性のオレフィン二重結合を有する同一のまたは異なる残基を表わし、〔M〕は無水物基の除去の後に残る、テトラカルボン酸の環式二無水物の残基を表わす)を有する化合物、およびc4)c1)、c2)およびc3)の型の成分から選択される二つまたはそれより多くの成分からなる混合物からなる群から選択される別な成分を少なくとも一つ含むことを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。
IPC (11):
G03F 7/038 504 ,  C08K 3/10 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/54 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027
FI (11):
G03F 7/038 504 ,  C08K 3/10 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/54 ,  C08L 79/08 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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