露光装置およびその装置における基板位置決め方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：飯塚義仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001101881
Publication number (International publication number)：2002296806
Application date： Mar. 30, 2001
Publication date： Oct. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】マスクよりも大きな露光対象基板に対する露光処理を高精度に行えるようにする。【解決手段】パターン形成用のマスクAよりも大きな露光対象基板Bを該マスクに対して複数回に分けて所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、マスクホルダ2にマスクAが保持される前に、補正手段8によって各所定位置で軸に対する露光チャック3の変位に応じた露光対象基板BとマスクAとの位置ずれを補正して、該各所定位置でマスクAを軸4に対して所定角度に設定する。また、露光対象基板Bが露光チャック3上に搬入される前に、テーブル6によって軸4に対する露光対象基板Bの変位に応じた位置ずれを補正する。

Claim (excerpt)：

マスクホルダに保持されたパターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板を露光チャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対して所定の軸によって所定方向にステップ移動することにより、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、前記マスクホルダに前記マスクが保持される前に、前記マスクの位置補正を行う補正手段と、前記マスクホルダに前記マスクが保持される前に、前記マスクと前記露光チャックとにそれぞれ設けられた位置合わせ用のマークを前記各所定位置で検出し、該マークの位置に応じた検出信号を出力する検出手段と、前記検出信号に基づき前記各所定位置における前記露光チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて該各所定位置で前記マスクを前記軸に対して所定角度に設定するための補正量を算出する演算手段と、前記補正量に基づき前記各所定位置で前記マスクを前記軸に対して所定角度に設定するよう前記補正手段の駆動を制御する制御手段とを具えた露光装置。

IPC (2)：

G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 9/00 Z , H01L 21/30 510

F-Term (23)：

2H097GA45 , 2H097KA03 , 2H097KA13 , 2H097KA16 , 2H097KA28 , 2H097LA12 , 5F046BA02 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC04 , 5F046CC05 , 5F046CC08 , 5F046CC09 , 5F046CC10 , 5F046CD01 , 5F046CD04 , 5F046EB01 , 5F046EB02 , 5F046ED01 , 5F046FA10 , 5F046FC04 , 5F046FC05 , 5F046FC08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

分割逐次近接露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-307426 Applicant：日本精工株式会社
近接露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-078733 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭57-211229

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