分割逐次近接露光装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：森哲也 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998307426
Publication number (International publication number)：2000035676
Application date： Oct. 28, 1998
Publication date： Feb. 02, 2000
Summary：

【要約】【課題】従来にない高精度の分割逐次近接露光装置を提供する。【解決手段】被露光材を照射するパターン露光手段3と、被露光材を載置するワークステージ2と、マスクを載置するマスクステージ1と、該ワークステージ1を位置決めするワークステージ送り機構7と、マスクと被露光材のギャップ調整手段6とを備えた近接露光装置において、ワークステージ送り機構7による送り方向を基準としてマスクの向きをパターン面内で調整するマスク位置調整手段14を備えている。

Claim (excerpt)：

被露光材に対し平行光を照射するパターン露光用の照明光学系を備えた露光手段と、被露光材を載置するワークステージと、マスクパターンを有するマスクを載置するマスクステージと、前記マスクパターンを被露光材上の所定位置に対向させるようにワークステージとマスクステージとを相対的に位置決めするステージ送り機構と、前記マスクと被露光材との対向面間のすき間を調整するギャップ調整手段とを備えた近接露光装置において、前記ステージ送り機構による送り方向を基準としてマスクの向きをパターン面内で調整するマスク位置調整手段を備えたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。

IPC (4)：

G03F 7/22 , G02F 1/13 101 , H01L 21/027 , H05K 3/00

FI (4)：

G03F 7/22 Z , G02F 1/13 101 , H05K 3/00 H , H01L 21/30 511

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開昭60-180120
オートフォーカス及びマスク・ウェーハ間ギャップ測定方法並びに装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-169702 Applicant：富士通株式会社
特開昭61-251026

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